البحث في المواصفات
Loading facets. please wait
(115)
(100)
(87)
(2)
(0)
(148)
(14)
(11)
(10)
(6)
(0)
(0)
(0)
(0)
(0)
جاري تصفية النتائج، الرجاء الانتظار...
GSO ISO 6142-1:2021
ISO 6142-1:2015
مواصفة قياسية خليجية
تحليل الغاز- تحضير مخاليط الغازات المعاير – الجزء الاول : الطريقة الوزنية لمخاليط الدرجة الاولى
ISO 20579-3:2021
مواصفة قياسية دولية
Surface chemical analysis — Sample handling, preparation and mounting — Part 3: Biomaterials
ISO 18114:2021
مواصفة قياسية دولية
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of relative sensitivity factors from ion-implanted reference materials
ISO/TR 15969:2021
مواصفة قياسية دولية
Surface chemical analysis — Depth profiling — Measurement of sputtered depth
ISO 19318:2021
مواصفة قياسية دولية
Surface chemical analysis — X-ray photoelectron spectroscopy — Reporting of methods used for charge control and charge correction
ISO 22581:2021
مواصفة قياسية دولية
Surface chemical analysis — Near real-time information from the X-ray photoelectron spectroscopy survey scan — Rules for identification of, and correction for, surface contamination by carbon-containing compounds
GSO ISO 19229:2021
ISO 19229:2019
مواصفة قياسية خليجية
التحاليل الغازية- تحليل ومعالجة بيانات النقاء
GSO ISO/TR 18394:2021
ISO/TR 18394:2016
مواصفة قياسية خليجية
التحاليل الكيميائية للسطح- التحليل الطيفي الاليكتروني بالاختراق - اشتقاق معلومات كيميائية
GSO ISO 11775:2021
ISO 11775:2015
مواصفة قياسية خليجية
التحليل الكيميائي السطحي -- الفحص المجهري بمسبار المسح -- تقدير ثوابت المرونة العادية للرافعة
ISO 14707:2021
مواصفة قياسية دولية
Surface chemical analysis — Glow discharge optical emission spectrometry (GD-OES) — Introduction to use
ISO 21222:2020
مواصفة قياسية دولية
Surface chemical analysis — Scanning probe microscopy — Procedure for the determination of elastic moduli for compliant materials using atomic force microscope and the two-point JKR method
ISO 16531:2020
مواصفة قياسية دولية
Surface chemical analysis — Depth profiling — Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS